Produkter för metall för (2)

PVD (Physical Vapor Deposition på engelska, eller fysikalisk ångavlagring på svenska) är en metod för metallbeläggningar som möjliggör avlagring av tunna filmer av material under vakuum genom ånga. Avlagringstemperaturen för PVD-beläggningar ligger vanligtvis mellan 80 och 150 °C. Tjockleken på avlagringen är 2 +/- 0,5 (mikron) Hårdheten HV 0,05 ligger mellan 800-1000 Överensstämmer med REACH- och RoHS-standarderna

ALD (Atomic Layer Deposition på engelska, eller atomlageravlagring på franska) är en avlagringsprocess som möjliggör avlagring av tunna filmer av material under vakuum med hjälp av gasformiga prekursorer. De delar som ska behandlas placeras i en vakuummaskin. Efter att en prekursor A har introducerats och avlagrats på hela ytan av de delar som ska behandlas, introduceras en prekursor B som reagerar med de första avlagrade atomerna för att bilda ett första atomlager. Denna cykel upprepas tills önskad tjocklek uppnås. Avlagringstemperaturen ligger mellan 150 och 200°. Fördelarna Perfekt följsamhet Utmärkt homogenitet på 3D-delar Reproducerbarhet av beläggningen Kontroll av tjockleken på nanometerskala God kemisk stabilitet Utmärkt barriärlager Icke-förorenande teknologi